《表1 陶瓷球在不同介质中经滚筒磨球100 h后的表面特征》
μm
2种陶瓷球在不同介质下经100 h滚筒磨球试验后的表面形貌如图3所示,由图可知,2种陶瓷球表面均出现不同程度的磨损或脱落。QSi3N4球在去离子水介质中进行磨球试验时以局部点脱落为主,平均直径约为25μm的点蚀坑在整个球面随机密布(图3b);QSi3N4球在酸性介质中的点蚀坑数量明显增加,同时,表面存在明显的弧线形机械磨粒磨损痕迹(图3c),这是由于酸性介质中造成Si3N4颗粒脱落,在磨球过程中充当了磨粒,在陶瓷球表面形成弧形犁沟:由此可知酸性介质环境更易诱发Si3N4腐蚀磨损。RSi3N4球在去离子水介质中进行磨球试验后,表面同样以局部点蚀损伤为主,但相较于QSi3N4球,其点蚀坑直径和深度较小(图3e);RSi3N4球在酸性介质中磨球后,表面除了弥散有点蚀坑外,同样存在弧线形磨粒磨损痕迹,但弧形划痕相对较轻(图3f):这说明在酸性溶液中RSi3N4腐蚀脱落的颗粒较小,造成磨粒磨损的犁沟较浅。2种陶瓷球的具体磨损表面特征见表1。研究表明,Si3N4在酸介质中的腐蚀主要是非晶态晶界的腐蚀[9]。当Si3N4处于无氧环境中且介质为酸性时,无法在Si3N4表面形成SiO2钝化层,因此,造成其腐蚀加剧。
图表编号 | XD0054244100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.08.05 |
作者 | 魏春梅、李英斌、蒋成燕、张建亭、丁平 |
绘制单位 | 中国航发西安动力控制科技有限公司、中国航天员科研训练中心、兰州工业学院、中国船舶重工集团公司第705研究所、中国航天员科研训练中心 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |