《表1 激光熔覆高熵合金体系、相组成及硬度》

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《激光熔覆制备高熵合金涂层的研究进展》

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目前，激光熔覆技术制备的高熵合金涂层体系可以分为两大类:一类是以Al、Fe、Cu、Co、Ni、Cr、Ti等为主要组成元素的高熵合金涂层；一类是以Mo、Nb、Hf、Zr、V等难熔金属元素为主要组成元素的难熔高熵合金涂层。已公开报道的激光熔覆技术制备的高熵合金涂层合金系及相组成列于表1中。无论何种体系的高熵合金涂层，大多均是以固溶体相为主要组成相，如Cu0.9NiAlCoCrFe合金涂层的组成相为单一的体心立方固溶相（BCC）[12]；Al2CoCrCuFeNi合金涂层形成了单一的面心立方固溶相（FCC）[13]；FeCoCrAlCuNiVx合金涂层随V含量的增加，组成相由FCC向FCC+BCC转变[17]；难熔高熵合金涂层TiZrNbWMo主要组成相为BCC相，还有少量的Tixw1-x；NbMoTaW合金涂层的组成相为BCC1和BCC2两种固溶相[53]；NbMoTaTi合金涂层形成了单一的BCC相[54]。少数激光熔覆技术制备的高熵合金涂层中形成了非晶相或纳米相，如哈尔滨工业大学Shu等人[18]制备的FeCoCrBNiSi涂层以非晶相为主，同时还有纳米相β-Co和γ（Fe，Ni）相和晶相Co2B相的形成。对比发现，激光熔覆制备高熵合金涂层的相组成与电弧熔炼或感应熔炼方式制备的相同成分的合金的相组成基本一致。但因为激光熔覆技术具有高的能量密度和高的冷却速度的特点，因此某些合金的相组成存在部分差异，同时采用激光熔覆技术制备的涂层其组织比熔炼方式制备的合金组织更为细小。