《表1 不同的制作及热处理工艺试验方案Tab.1 Test schemes of different production and heat treatment processes》

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《提高Ni-Cr合金薄膜电阻稳定性的工艺研究》

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按照图1的工艺流程制作所有试件，采用设计的两种不同应变图形制作膜厚为160、230、300 nm的试件，保证单片应变电阻均为（3000±500）?。研究方案设计如表1，每组试验选取5个试件，试验结果为5个试件的均值。此试验设计可分析不同薄膜热退火工艺对薄膜电阻稳定性的影响。