《表1 MRI序列及参数Tab 1 MRI sequence and parameters》
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《2种磁共振去伪影技术在不同材料金属烤瓷冠成像中的比较》
注:TR为重复时间,TE为回旋时间,FOV为视野,TH为层厚,SP为层间隔,Matrix为扫描矩阵,NEX为激励次数。
采用GE公司生产的1.5T MRI成像仪进行检查,头部8通道线圈,常规头部检查定位。所有患者均行轴位FSE T2WI序列扫描和propeller-FSE T2WI序列扫描,检查由同一位技师完成。序列的扫描参数见表1。研究共扫描15层,检查部位包括头部和上、下颌骨。
图表编号 | XD0034359300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 李文晋、牛金亮、朱莉、王瑜、安颖、张双元 |
绘制单位 | 山西医科大学第二医院口腔科、山西医科大学第二医院影像科、山西医科大学第二医院口腔科、山西医科大学第二医院口腔科、山西医科大学第二医院口腔科、山西医科大学第二医院口腔科 |
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