《表4 实际样品测定结果：气相色谱-质谱法同时测定高纯三氯氢硅中4种甲基氯硅烷的方法研究》
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《气相色谱-质谱法同时测定高纯三氯氢硅中4种甲基氯硅烷的方法研究》
注:“-”低于仪器检出限，未检出。
生产线上取得的三氯氢硅样品，按2.1节处理后进气相色谱质谱分析，测定结果见表4。
| 图表编号 | XD0031147300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.01.28 |
| 作者 | 杨红燕 |
| 绘制单位 | 云南冶金云芯硅材股份有限公司、云南省光电子硅材料制备技术重点实验室 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
