《表3 mSiO2-IDA吸附Cu2+, Cd2+的Langmuir和Freundlich参数Table 3 Langmuir and Fredulich parameters for the ads
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《mSiO_2-IDA对Cu~(2+)、Cd~(2+)金属离子的吸附》
图6(b)示出了mSiO2-IDA吸附Cu2+、Cd2+的Langmuir吸附等温线,所得参数如表3所示。表中Langmuir的线性相关系数R2比Freundlich的R2大,为0.999 9。从Langmuir等温吸附模型中得到的最大吸附量分别为49.1mg/g和43.7mg/g,与实验所得的最大吸附量49.0 mg/g和43.5 mg/g相比也更为接近,所以可用Langmuir等温吸附模型来表达mSiO2-IDA对Cu2+、Cd2+的吸附过程。由此可知,mSiO2-IDA对Cu2+、Cd2+两种金属离子的吸附为单分子层化学吸附。
图表编号 | XD0025786400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.04.30 |
作者 | 史学伟、昌慧、赵双良、徐首红 |
绘制单位 | 华东理工大学结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室、华东理工大学化学与分子工程学院、华东理工大学结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室、华东理工大学化学与分子工程学院、华东理工大学化工学院、华东理工大学结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室、华东理工大学化学与分子工程学院 |
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