《表1 通道实验参数：宽高比及表面粗糙度对矩形微尺度通道流动特性的影响》

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《宽高比及表面粗糙度对矩形微尺度通道流动特性的影响》

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硅通道采用MEMS（micro-electromechanical systems）工艺刻蚀得到，实验件共有22个通道，通道宽度（W）和高度（H）均为0.4mm，长度（L）为90mm，表面粗糙度为13nm，相对表面粗糙度为0.003 25%。实验参数如表1所示。