《表3 各处理工艺段水质情况》

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《半导体行业含氟废水处理应用研究》

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该项目自2019年6月调试运行以来，各处理工艺段运行情况如表3所示，一级混凝沉淀、二级混凝沉淀和活性氧化铝吸附对氟的去除率分别为67.6%～92.5%、43.8%～78.0%和38.5%～72.2%，总的去除率为95.6%～98.8%，其它污染物指标均达到了污水综合排放标准》（GB 8978-1996）一级标准。工程实践证明：采用二级化学沉淀可以有效降低出水氟离子浓度；回流污泥起到晶种的作用，通过卷扫、吸附作用提高除氟效率，同时被絮凝的Ca（OH）2立即释放出Ca2+从而降低氟离子浓度[6]。