《表3 固化时间及KH560的加入对膜层硬度的影响》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《酸对硅烷膜形成及性能的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

固化时间及KH560的加入对涂层硬度的影响见表3。单一的KH792硅烷膜常温固化时间长，固化52 h还不能实现表干，且表面膜层不致密。加入KH560后，复合膜层在常温下固化3 h达到表干，大大减小了常温固化时间。这是因为KH792中的氨基与KH560中的环氧基发生加成反应，提高了硅烷膜的交联度，且KH792中的氨基在溶液中能够提供OH-，能够促进-Si-OH的缩合速率，使交联速率大幅度提高，实现复合膜层的常温固化，其固化机理见图6。