《表1 各个样品的H0及h*的值》

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《氙离子辐照后Hastelloy N合金的纳米硬度及其数值模拟》

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其中，HMeasured为实验测得的纳米硬度，H0是无限深度处的纳米硬度（体积当量硬度），h*是特征长度，h为压痕深度。利用Kasada等[12]开发的方法，在Nix-Gao模型[8]的基础上，做出H2-h-1的关系图，如图4所示。图中实线是根据最小二乘法拟合出来的，可以看出，未辐照样品的数据点近似为一条直线，而辐照样品的数据点则呈双线性关系。对于辐照剂量为0.5、1.0和3.0 dpa的样品，相应曲线分别在压入深度为256、258和266 nm处发生转折，这是由于软基体效应（softer substrate effects，SSE）造成的。在转折点（hc）处，软基体开始对纳米硬度有贡献，转折点对应的深度大约为辐照损伤层厚度的1/6～1/5，这与前期的研究结果[21，22]相符。根据H2-h-1关系曲线的截距和斜率可以求出各个样品的H0和h*，所得结果见表1。