《表一//韩井遗址部分堆积单位植硅体分析土样信息》
*需要指出的是,T3352k1填土的发掘工作持续两个发掘年度。其中,T3352k1(1)层2015年发掘清理后暂停该遗迹填土的发掘工作,而且当时未取样分析。2016年继续对T3352k1填土进行清理,T3352k1(2)层19~26厘米取样深度的选择是2016年度发掘过程中多次刮面所致,并非主动选择。
植硅体提取参考目前国内外从沉积物中提取植硅体的一般流程[4],并根据中国南方土壤沉积物性质略有调整。植硅体鉴定与统计参考已发表的一些标准[5]和中国国家博物馆田野考古研究中心收集的现代标本。采用加拿大树胶(沃凯Ourchem,CASNO[8007-47-4],折光率1.52—1.54)作为观察介质,在生物显微镜(型号:Nikon Eclipse LV100NPOL)下进行鉴定、统计和拍照。选取500个作为单个样品植硅体统计总量标准。
图表编号 | XD0015663200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.28 |
作者 | 邱振威、庄丽娜、林留根 |
绘制单位 | 中国国家博物馆、中国国家博物馆、南京博物院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |