《表2 添加镍包覆碳化硅粉体的镁合金微弧氧化膜的点滴试验结果》

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《添加不同种类镍粉体对镁合金微弧氧化膜性能的影响》

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由表2可知:当镍包覆碳化硅粉体的质量浓度为0~2g/L时，膜层表面粉体极少，微量的粉体呈点状分布，点滴时间变化不大，膜层的耐蚀性较差。随着镍包覆碳化硅粉体的质量浓度的增加，粉体在膜层表面的覆盖度变大，膜层的耐蚀性有所增强。当镍包覆碳化硅粉体的质量浓度增加到4g/L时，粉体在试片上均匀覆盖，此时膜层的点滴时间最长，耐蚀性最好。此后，随着镍包覆碳化硅粉体的质量浓度的继续增加，粉体在膜层表面覆盖均匀，光泽度逐渐变好，但耐蚀性并没有增强，并且溶液中的粉体残余特别多。可见，镍包覆碳化硅粉体的最佳质量浓度为4g/L，既能达到耐蚀效果，又节约资源。