《表1 Tafel曲线的拟合结果》
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《平均电流密度对脉冲电镀Ni-Cr-Mo合金镀层的影响》
图4为不同平均电流密度下所得镀层的Tafel曲线。表1为Tafel曲线的拟合结果。自腐蚀电位越正,腐蚀倾向越小;自腐蚀电流密度越小,腐蚀速率越小。由表1可知:当平均电流密度由8A/dm2增大到10A/dm2时,自腐蚀电位由-0.589V正移至-0.405V,自腐蚀电流密度减小了一个数量级,镀层的耐蚀性明显增强;当平均电流密度继续增大到12A/dm2时,自腐蚀电位由-0.405V负移至-0.575V,自腐蚀电流密度增大了一个数量级,镀层的耐蚀性明显减弱。当平均电流密度为10A/dm2时,镀层具有最正的自腐蚀电位和最小的自腐蚀电流密度,腐蚀倾向和腐蚀速率最小,耐蚀性最好。
图表编号 | XD0014282100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.03.30 |
作者 | 刘海鹏、张志桐、王心悦、孟庆波、李运刚、杨海丽 |
绘制单位 | 华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室、华北理工大学现代冶金技术教育部重点实验室 |
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