《表1 20Mg2Si/Al复合材料的试验工艺参数》

《表1 20Mg2Si/Al复合材料的试验工艺参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《脉冲磁场与变质处理对20Mg_2Si/Al复合材料中初生Mg_2Si相的影响》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

试验采用坩埚电阻炉进行熔炼,将Al和Al-25Si合金加入至电阻炉中,待合金熔化后,再加入纯Mg,将电阻炉温度调至760℃,将变质剂P与La加入炉中,并保温20min。试验首先对比研究了未处理、磁场处理、脉冲磁场-变质剂复合处理对20Mg2Si/Al复合材料中初生Mg2Si相的影响,然后研究了复合处理条件下,不同磁场电压和频率对20Mg2Si/Al复合材料中初生Mg2Si相的影响。具体试验参数见表1,所有试验的浇注温度均为730℃,模具预热温度为600℃。