《表1 20Mg2Si/Al复合材料的试验工艺参数》
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《脉冲磁场与变质处理对20Mg_2Si/Al复合材料中初生Mg_2Si相的影响》
试验采用坩埚电阻炉进行熔炼,将Al和Al-25Si合金加入至电阻炉中,待合金熔化后,再加入纯Mg,将电阻炉温度调至760℃,将变质剂P与La加入炉中,并保温20min。试验首先对比研究了未处理、磁场处理、脉冲磁场-变质剂复合处理对20Mg2Si/Al复合材料中初生Mg2Si相的影响,然后研究了复合处理条件下,不同磁场电压和频率对20Mg2Si/Al复合材料中初生Mg2Si相的影响。具体试验参数见表1,所有试验的浇注温度均为730℃,模具预热温度为600℃。
图表编号 | XD00139737700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.01.20 |
作者 | 谭震林、周全、吴晗、杨成刚 |
绘制单位 | 南昌航空大学航空制造工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |