《表5 Langmuir和Freundlich等温线模型参数》

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《余甘子固定化单宁的制备及其对Ge(Ⅳ)、Ga(Ⅲ)及In(Ⅲ)的吸附特性研究》


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余甘子固定化单宁上吸附Ge(Ⅳ)、Ga(Ⅲ)、In(Ⅲ)的吸附等温线如图8所示,计算参数如表5所示。结果显示对于Ge(Ⅳ)、Ga(Ⅲ)、In(Ⅲ),Langmuir模型比Freundlich模型能更好地描述吸附过程,Langmuir模型的R2均大于0.975 2,而Freundlich模型的R2在0.61~0.70,且用Langmuir模型模拟的最大吸附值(qm)与实际的实验结果(qe,exp)基本一致。说明余甘子固定化单宁对金属离子的吸附更符合Langmuir模型,即余甘子固定化单宁的表面存在均匀的吸附位点,且以单分子层吸附水体中的Ge(Ⅳ)、Ga(Ⅲ)、In(Ⅲ),余甘子固定化单宁的吸附能力为In(Ⅲ)>Ga(Ⅲ)>Ge(Ⅳ)。而对于Freundlich模型,Ge(Ⅳ)、Ga(Ⅲ)、In(Ⅲ)的“n”均在1