《表1 输入电流为0时附加不同杨氏模量薄膜的结构隔峰频率》
采用半径r3=8 mm、厚度d2=1.5 mm的钕铁硼磁铁,采用厚度d=0.6 mm、半径r=15 mm的薄膜,硅胶薄膜的杨氏模量E分别取为1 MPa、2 MPa、3 MPa,计算得到具有不同杨氏模量薄膜结构在输入电流为0时隔峰频率及在不同大小电流作用下隔峰频率移动量,如表1和图8所示。
图表编号 | XD00128876400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.18 |
作者 | 杭锐、吴卫国、曾天成 |
绘制单位 | 江苏大学土木工程与力学学院、江苏大学土木工程与力学学院、江苏大学土木工程与力学学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |