《表3 主要变量对外国在华专利申请数量的回归分析》
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《“弱保护”下的外国在华专利申请驱动因素研究:理论与实证》
注:*表示p<0.1,**表示p<0.05,***表示p<0.01,下同
本研究采用Stata12软件对模型进行估计,外国在华专利申请主要影响因素的随机效应模型回归结果如表3所示。
图表编号 | XD00120621600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.09.10 |
作者 | 蔡中华、陈鸿、马欢 |
绘制单位 | 北京化工大学经济管理学院、北京化工大学经济管理学院、国家知识产权局专利局 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |