《表6 Cu对K分析谱线强度的影响》

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《电感耦合等离子体原子发射光谱法测定土壤中8种组分》

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其中，K的两条分析谱线受到来自Cu的光谱干扰，为了考察不同质量浓度的Cu对K分析谱线强度的影响，向10.0μg/mL K标准溶液中分别加入不同体积的1mg/mL Cu标准溶液，使溶液中Cu质量浓度分别为10.0、20.0、50.0、100μg/mL（相当于实际样品中Cu的质量分数为1 000、2 000、5 000、10 000μg/g）。在仪器条件下，分别进行光谱扫描，见表6。结果表明，当待测溶液中Cu质量浓度大于10μg/mL时，K 766.49nm比K 404.414nm发射强度高、干扰少、峰形好，而且K 766.49nm左右背景均不受Cu的影响；K 404.414nm谱线左背景不受Cu干扰，但右背景受Cu干扰严重，且扣除右背景后，仍无法完全消除Cu的干扰。随着溶液中Cu质量浓度的增加，K 404.414nm谱线强度逐渐降低，导致测定结果出现严重偏差。另外，在实际土壤样品中Cu质量分数一般不高于1 000μg/g，且远远低于10 000μg/g，因此，在分析土壤样品时，选择K766.49nm作为分析谱线。