《表1 酒石酸-谷氨酸低磷L9 (34) 正交表》

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《Ni-P低磷镀层制备及其耐磨性研究》

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注:其他工艺条件为40g/L NiSO4·6H2O、15mg/L KIO3稳定剂、31g/L谷氨酸

在单因素的实验基础上，优选出络合剂A、络合剂B、pH值和次亚磷酸钠浓度作为因素，选用L9（34）正交表，如表1所示[15-16]。