《表2 四因素三水平表：钢铁基体上KH792改性TEOS聚硅氧薄膜的制备及其耐蚀性能》
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《钢铁基体上KH792改性TEOS聚硅氧薄膜的制备及其耐蚀性能》
根据上述三组单因素试验确定了水醇比、水解时间、正硅酸乙酯与KH792的比例以及混合物占总溶液体积分数4个单一因素的最佳值，通过四因素三水平正交试验进一步优化。因素水平值见表2，试验结果见表3。采用极值法分析正交优化试验结果:
| 图表编号 | XD0010221000 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2018.11.15 |
| 作者 | 袁鹏园、袁梅、刘宇、冯立明 |
| 绘制单位 | 山东建筑大学材料科学与工程学院、山东建筑大学材料科学与工程学院、山东建筑大学材料科学与工程学院、山东建筑大学材料科学与工程学院 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
