《表3 TA2试样的低塑性抛光参数》
显微硬度是材料抵抗压入弹塑性变形抗力的一个重要性能,直接反映了材料在加载过程中的应力应变与卸载后的弹性回复及塑性压痕特征,而且在工程中非常便于应用,因此在表征表层力学性能特征时多采用显微硬度来间接反映表层的强度、塑性和抗弹塑性变形能力[1]。低塑性抛光会使材料表面发生塑性变形从而产生加工硬化效应,表层显微硬度将升高,并逐渐过渡到基体,对材料使用性能造成影响。Yuan等[32]利用表3所示的两组参数对TA2进行了低塑性抛光处理并测定了其显微硬度随层深的变化情况,结果如图9[32]所示,抛光参数的较小差异会造成显微硬度的巨大不同,因此有必要对各参数的具体影响进行研究,以便更好地控制表面改性效果。
图表编号 | XD00101659400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.09.15 |
作者 | 高玉魁、柳鸿飞 |
绘制单位 | 同济大学航空航天与力学学院、同济大学航空航天与力学学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |