《表1 GH4169的主要化学成分》

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《沉积温度对NiCrAlY/Ag复合薄膜结构及性能的影响》

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采用尺寸为φ20 mm×6 mm的GH4169合金作为基体，用砂纸打磨后，抛光至镜面效果，然后用丙酮超声清洗30 min，吹干，放入真空室备用。GH4169基体的主要化学成分见表1。同时为观察薄膜的组织结构，采用单晶硅作为基体。利用中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司研发的实验型多功能镀膜机-650型设备，以离子源辅助磁控溅射技术制备NiCrAlY/Ag复合薄膜（NiCrAlY合金靶中元素的原子比为wN i∶wC r︰wA l︰wY=67︰22︰10︰1)，NiCrAlY合金靶和Ag靶都采用直流电源。在本底真空度为4×10–3 Pa下对基体进行30 min的氩离子溅射清洗，去除基体表面的附着物并活化基体表面。首先在基体表面沉积厚度为150 nm左右的NiCrAlY过渡层，然后采用NiCrAlY靶和Ag靶共溅射的方式制备NiCrAlY/Ag复合薄膜。工艺参数如下：离子源功率为110 W，偏压为–50 V，NiCrAlY靶功率为800 W，Ag靶功率为95 W，沉积时间为120 min。通过设备的加热装置和配套的冷却水路系统对沉积温度进行调控，分别将沉积温度控制在60、120、180℃。