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目 录6

序言6

第一章绪论7

§1.区域熔化及其应用范围7

§2. 区域熔化在半导体冶金中的重要性8

§3.区域熔化法的优越性和发展前途8

第二章区域熔化的基本原理10

§1.新相成长时的扩散过程10

§2.分配系数10

§3.定向结晶11

第三章区域精炼14

§1.区域精炼的实质14

§2.熔区大小的选择15

§3.熔区移动次数的决定19

§4.熔区移动速度的决定20

§5.熔区在锭上的移动方式22

§6.关于锭的倾斜25

第四章区域匀平28

§1.区域匀平的意义和它的用途28

§2.区域匀平的基本原理28

§3.区域匀平的技术条件31

§2.用区域精炼法制备超纯度锗的优越性33

第五章用区域精炼法制备超纯度锗38

§1.超纯度锗及其用途38

§3.区域精炼提纯铝的主要设备39

§4.操作过程44

§5.对原料纯度的要求和提纯结果48

§6.工作环境的整洁49

§7.对区域精炼提纯锗中几个问题的计论50

参考文献53

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