《数字集成电路技术交流资料选编》
| 作者 | 技术交流资料选编 编者 |
|---|---|
| 出版 | 上海科学技术情报研究所 |
| 参考页数 | 124 |
| 出版时间 | 1976（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 无 — 求助条款 |
| PDF编号 | 87201868（仅供预览，未存储实际文件） |
| 求助格式 | 扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册） |
目 录1
以路线斗争为纲提高电路可靠性的体会 苏州半导体器件一厂1
为提高电路合格率而努力 上海无线电十九厂6
对硅（100）晶面在集成电路中应用的探讨 八三三一厂13
浅饱和高速TTL电路及其在高低温下的适用性 北京无线电器件厂19
关于提高介质隔离数字集成电路参数稳定性问题 上海无线电七厂42
用MOS电容法测量SiO2中的离子沾污 复旦大学物理系44
表面钝化和C-V分析 上海冶金研究所54
数字电路高电源大功率直流老化筛选 八七八厂65
筛选数字集成电路的一种新方法——Vcc-Icc特性曲线筛选法 八七八厂77
集成电路可靠性试验总结……………………………………………………85
京字一一五部队、四○一所、北京半导体器件三厂、八七八厂85
集成电路底座酸性镀金（合金电镀） 上海无线电十九厂119
1976《数字集成电路技术交流资料选编》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由技术交流资料选编 1976 上海科学技术情报研究所 出版的版本） 。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。
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