《第三届光学干涉薄膜专题会议文集》

早期的一些商用光学薄膜，一个令人兴奋的回顾1

1专题：光学多层膜的理论2

Ⅰ.全介质带通滤光片的设计方法(特邀)2

Ⅱ.模拟四分之一波长膜层6

Ⅲ.利用高低折射率的极薄膜层设计膜系10

Ⅳ.在一台小型计算机上执行大型薄膜设计程序14

Ⅴ.光学滤光器综合设计的新数学方法16

2专题：应用在短波区的多层膜(特邀)17

Ⅰ 波长在1埃处的波动光学17

Ⅱ.中子波干涉膜(特邀)20

Ⅲ.多层光学膜的x光检验24

Ⅳ.远紫外层状微结构膜的综合分析技术28

3专题：薄膜器件(Ⅰ)29

Ⅰ 激光膜(特邀)29

Ⅱ.大功率多波长激光偏振器的设计30

Ⅲ 消偏振截止滤光片(Ⅱ)34

Ⅳ.四分之一波长薄膜延迟片37

Ⅴ.不退色的彩色幻灯片40

Ⅵ.具有扩展高反射带的紫外介质多层膜42

Ⅶ.2000—3000A紫外干涉滤光48

用于光刻蚀的涂层(特邀)52

4专题：薄膜器件(Ⅱ)52

Ⅱ.用于红外器件的耐磨损，减反射的硬碳膜层55

Ⅲ.硬碳膜的化学健，物理性质及光学应用58

Ⅳ.光学上应用的氧化铟一氧化锡薄膜(特邀)60

Ⅴ.TiO2/Ag/TiO2结构的导电反热膜64

Ⅵ.透可见反红外宽带分色片的设计67

5专题：薄膜特性(Ⅰ)71

Ⅰ.研究薄膜现象的各种实验方法(特邀)71

Ⅱ.用喇曼光谱仪研究二氧化钛光学薄膜的晶相特性73

Ⅲ 波长扫描激光比热计的研制76

Ⅳ.利用表面干涉色目检有机单分子膜层—反射表面的最佳条件80

Ⅴ.光学薄膜的超显微硬度的测试84

Ⅵ.计算机控制的测量不同入射角下的反射率和透射率的分光光度仪88

6专题：薄膜特性(Ⅱ)92

Ⅰ.光学膜层的光散射(特邀)92

Ⅱ.具有非均匀介电常数粗糙表面的光散射理论94

Ⅲ.由测量散射光的分布来确定光学表面的特性(特邀)95

Ⅳ.怎样确定光散射与薄膜微结构及表面轮廓的关系96

7专题：薄膜特性(Ⅲ)98

Ⅰ.高反射镜反射率的精确测量98

Ⅱ 大尺寸光学元件的镀膜技术要求和测试(特邀)103

Ⅲ 表面质量对co2激光光学元件的影响104

Ⅳ 激光引起的薄膜初始损伤与材料性质的关系108

Ⅴ 可见和紫外光学薄膜的特性110

Ⅵ 薄膜的折射率及其非均匀性112

Ⅶ 用测量反射率和透射率的方法来确定吸收膜的光学常数113

Ⅷ 用牛顿法重新求Hadley—Dennison方程的解116

8专题：技术材料117

Ⅰ 基片制备对光学涂层的影响(特邀)117

Ⅱ 减少氟化铈薄膜中的应力122

Ⅲ 二氧化钒光开关的涂层设计123

Ⅳ 8—13微米波段薄膜基底滤光片127

Ⅴ 10.6微米的陷波器(窄带截止型)130

Ⅵ 碲化铅光学薄膜的研究131

9专题：结构效应134

Ⅰ 中国光学薄膜的概况介绍134

Ⅱ 薄膜中的结构效应137

Ⅲ 薄膜淀积的表面平滑效应140

Ⅳ 双折射型薄膜的淀积、特性和摸拟143

Ⅴ 离子诱导光学薄膜中潮气的解吸148

Ⅵ 经改进环境稳定性的多层滤光片150

Ⅰ 离子束辅助淀积光学薄膜(特邀)153

10专题：淀积工艺(Ⅰ)153

Ⅱ 在室温基片上进行镀膜的离子束工艺158

Ⅲ 离子辅助沉积光学薄膜：低能和高能轰击160

Ⅳ 用于离子辅助淀积光学薄膜的大面积冷阴极离子源161

Ⅴ 等离子体促进光学干涉膜的化学汽相淀积163

11专题：淀积工艺(Ⅱ)166

Ⅰ 多组分材料的溅射(特邀)166

Ⅱ 光学干涉膜的离子簇束淀积(特邀)167

Ⅲ 用离子束溅射改进光学干涉膜的稳定性173

Ⅳ 用离子束溅射方法在熔石英基底上镀减反射膜175

Ⅴ 离子束溅射的淀积参数对五氧化二钽膜光学性质的影响176

12专题：工艺监控177

Ⅰ 光学薄膜淀积过程的工艺控制和自动化(特邀)177

Ⅱ 光学镀膜自动化的综述179

Ⅲ 用于红外光学镀膜的空自动真镀膜机180

Ⅳ 计算机辅助光学镀膜实验室工作185

Ⅴ 用结构摸拟法来改进薄膜设计186

Ⅵ 用自动椭偏仪实现薄膜的沉积监控188

Ⅶ 对称周期膜系的监控——定值法192

Ⅷ 光学薄膜任意厚度控制方法及其误差摸拟198