《中国真空学会第二届年会论文集 短文和摘要 2卷》求取 ⇩

目 录1

H—01 一台液氮温度下获得10-13托的金属真空系统 达道安 杨益民1

目 录1

H—01 一台液氮温度下获得10-13托的金属真空系统 达道安 杨益民1

H—02 10-12托超高真空测试系统的研制 陆 明 岑力民4

H—02 10-12托超高真空测试系统的研制 陆 明 岑力民4

H—03对旋片泵的几点研究 荣道发6

H—03对旋片泵的几点研究 荣道发6

B—40真空蒸发制源技术改进 杜鸿善 贾璋（267

B—40真空蒸发制源技术改进 杜鸿善 贾璋（267

H—04滑阀式真空泵振动控制的探讨 汪学鋆9

H—04滑阀式真空泵振动控制的探讨 汪学鋆9

H—05 K—600A型金属油扩散泵的研制 杨乃恒姚民生12

H—05 K—600A型金属油扩散泵的研制 杨乃恒姚民生12

H—06氟里昂致冷的挡油障板降低返油率 王敬泉许茂桃14

H—06氟里昂致冷的挡油障板降低返油率 王敬泉许茂桃14

H—07溅射离子泵阴极结构试验分析 林权昌17

H—07溅射离子泵阴极结构试验分析 林权昌17

H—08钛泵机组残气成分的质谱分析 邱绍雄沈国华19

H—08钛泵机组残气成分的质谱分析 邱绍雄沈国华19

——托卡马克CT—6 B上的应用 张延哲22

——托卡马克CT—6 B上的应用 张延哲22

H—09锆铝吸气剂泵在核聚变装置22

H—09锆铝吸气剂泵在核聚变装置22

H—10涡轮分子泵叶列传输几率的蒙特卡罗计算 杨乃恒王维常23

H—10涡轮分子泵叶列传输几率的蒙特卡罗计算 杨乃恒王维常23

H—11 涡轮分子泵叶列传输几率的计算——积分方程法 屠基元 杨乃恒28

H—11 涡轮分子泵叶列传输几率的计算——积分方程法 屠基元 杨乃恒28

H—12涡轮分子泵轴承的油脂润滑 董 镛赵世勋32

H—12涡轮分子泵轴承的油脂润滑 董 镛赵世勋32

H—13涡轮分子泵轴承润滑的设计计算 黄克威36

H—13涡轮分子泵轴承润滑的设计计算 黄克威36

H—14前级泵对分子泵真空系统的影响 国强39

H—14前级泵对分子泵真空系统的影响 国强39

吸附等温线的研究 谢珏刘炳坤41

吸附等温线的研究 谢珏刘炳坤41

H—15低温低压下H2在2 X—15活性炭上41

H—15低温低压下H2在2 X—15活性炭上41

H—16致冷机低温泵中吸附剂与粘结剂45

材料性能的研究 刘炳坤45

材料性能的研究 刘炳坤45

H—16致冷机低温泵中吸附剂与粘结剂45

H—17国外致冷机低温泵的发展与应用 刘炳坤46

H—17国外致冷机低温泵的发展与应用 刘炳坤46

H—18稳态超导磁镜装置多室真空系统剩余气体密度的50

测量和自洽计算 陈方钧 张术明50

测量和自洽计算 陈方钧 张术明50

H—18稳态超导磁镜装置多室真空系统剩余气体密度的50

H—19一种供质谱仪使用的小型超高真空系统 董 镛 曹成喜54

H—19一种供质谱仪使用的小型超高真空系统 董 镛 曹成喜54

H—20七十米长的大型空间模拟装置的准无油抽气57

H—20七十米长的大型空间模拟装置的准无油抽气57

系统 陈正全57

系统 陈正全57

H—21 X射线望远镜空间模拟检测装置的制造工艺60

（真空容器部分） 李朝楷60

（真空容器部分） 李朝楷60

H—21 X射线望远镜空间模拟检测装置的制造工艺60

H—22抽气时间计算方法研究 熊世杰63

H—22抽气时间计算方法研究 熊世杰63

H—23正负电子贮存环真空系统 程渭纶杨云67

H—23正负电子贮存环真空系统 程渭纶杨云67

H—24 北京质子直线加速器10MeV的真空系统 陈鹤芳 于秀珍70

H—24 北京质子直线加速器10MeV的真空系统 陈鹤芳 于秀珍70

H—25 大抽气量的双室窄缝真空系统73

H—25 大抽气量的双室窄缝真空系统73

在镀膜机上的应用 张子一73

在镀膜机上的应用 张子一73

H—26 一位微处理机控制的真空系统 王敬泉狄小平77

H—26 一位微处理机控制的真空系统 王敬泉狄小平77

H—27 一种新型的φ150毫米全金属阀 郑主安 钱国华80

H—27 一种新型的φ150毫米全金属阀 郑主安 钱国华80

H—28 新型真空蝶阀 冯慧生83

H—28 新型真空蝶阀 冯慧生83

H—29 西德N62真空泵油的再生和代用 杨常青徐成海87

H—29 西德N62真空泵油的再生和代用 杨常青徐成海87

H—30 密封橡胶0圈的设计 蔡树铭89

H—30 密封橡胶0圈的设计 蔡树铭89

H—31 转动真空密封装置（摘要） 郝斌干90

H—31 转动真空密封装置（摘要） 郝斌干90

H—32 机械泵的长寿与再生（摘要） 康哲王彦文91

H—32 机械泵的长寿与再生（摘要） 康哲王彦文91

H—34 JK系列高真空抽气机组抽速不稳的解决办法（摘要） 朱同庆92

H—33 扩大油蒸汽流泵工作区域的探讨（摘要） 任倬92

H—34 JK系列高真空抽气机组抽速不稳的解决办法（摘要） 朱同庆92

H—33 扩大油蒸汽流泵工作区域的探讨（摘要） 任倬92

H—35 水蒸汽喷射真空泵的现场调试（摘要） 王建国93

H—36 电离升华泵用的新型电离器（摘要） 郑有来储继国93

H—35 水蒸汽喷射真空泵的现场调试（摘要） 王建国93

H—36 电离升华泵用的新型电离器（摘要） 郑有来储继国93

H—38 电子轰击式钛升华器的研究（摘要） 成致祥94

H—38 电子轰击式钛升华器的研究（摘要） 成致祥94

H—37 锆铝吸气泵的低真空工作性能（摘要） 胡复亨 潘小华94

H—37 锆铝吸气泵的低真空工作性能（摘要） 胡复亨 潘小华94

H—40 涡轮分子泵获得超高真空的新发展（摘要） 王德苗 任高潮95

H—39 锆铝吸气剂泵分子泵机组的研究（摘要） 曹成喜董 镛95

H—39 锆铝吸气剂泵分子泵机组的研究（摘要） 曹成喜董 镛95

H—40 涡轮分子泵获得超高真空的新发展（摘要） 王德苗 任高潮95

H—41 一台新型大抽速无油超高真空系统的研制（摘要） 王宗正96

H—41 一台新型大抽速无油超高真空系统的研制（摘要） 王宗正96

H—43 一个低真空大排气量真空设备的调试（摘要） 仇明宽 张孝义97

H—42 KM 4空间环模设备主模拟室的设计与研制（摘要） 黄本诚97

H—42 KM 4空间环模设备主模拟室的设计与研制（摘要） 黄本诚97

H—43 一个低真空大排气量真空设备的调试（摘要） 仇明宽 张孝义97

H—44 在场发射显微镜研究中使用的98

几种超高真空系统（摘要） 张兆祥 富文范98

H—44 在场发射显微镜研究中使用的98

几种超高真空系统（摘要） 张兆祥 富文范98

H—45 轨旋式钛泵的实验研究（摘要） 孙大明 吕时良98

H—45 轨旋式钛泵的实验研究（摘要） 孙大明 吕时良98

H—46 真空中材料试验样品温度调节系统设计与计算（摘要） 刘玉魁99

H—47 不锈钢（1Cr18Ni9Ti）烘烤与氧化处理实验探讨（摘要）99

顾庆倩梁月云99

H—46 真空中材料试验样品温度调节系统设计与计算（摘要） 刘玉魁99

顾庆倩梁月云99

H—47 不锈钢（1Cr18Ni9Ti）烘烤与氧化处理实验探讨（摘要）99

H—48 微调磁力偶合样品驱动装置（摘要） 石生亮100

H—48 微调磁力偶合样品驱动装置（摘要） 石生亮100

H—49 液氮温度下可拆金属法兰的铟丝密封（摘要） 温诚华 许善琳101

H—50 致冷机低温泵设计综述（摘要） 赵清辉101

H—50 致冷机低温泵设计综述（摘要） 赵清辉101

H—49 液氮温度下可拆金属法兰的铟丝密封（摘要） 温诚华 许善琳101

H—51 大升华率电子轰击式升华器 蓝增瑞102

H—51 大升华率电子轰击式升华器 蓝增瑞102

H—52 低温抽气技术目前发展状况 于书永105

H—52 低温抽气技术目前发展状况 于书永105

H—53 JKT—200ZA型自动控制高真空机组 李云松 鲁忠泽108

H—53 JKT—200ZA型自动控制高真空机组 李云松 鲁忠泽108

H—54 XB—08型旋片式真空泵的研制 那振兴等110

H—54 XB—08型旋片式真空泵的研制 那振兴等110

H—55 K—58F型风冷式油扩散泵简介 刘慧珍等113

H—55 K—58F型风冷式油扩散泵简介 刘慧珍等113

H—56 涡轮分子泵叶片的微分电路模型——泄漏对叶轮压114

缩比的影响 储继国114

缩比的影响 储继国114

H—56 涡轮分子泵叶片的微分电路模型——泄漏对叶轮压114

※ ※ ※117

J—01 钢液的真空脱气—喷粉处理法 王鹤鸣钟开龙117

※ ※ ※117

J—01 钢液的真空脱气—喷粉处理法 王鹤鸣钟开龙117

J—02真空碳脱氧对非金属夹杂物的影响 张道茹张树藩119

J—02真空碳脱氧对非金属夹杂物的影响 张道茹张树藩119

J—03真空中频感应加热炉在钽铌生产中的应用 张瑞华 邵志俊124

J—03真空中频感应加热炉在钽铌生产中的应用 张瑞华 邵志俊124

J—04大尺寸定向面钼单晶研究 唐敦湘126

J—04大尺寸定向面钼单晶研究 唐敦湘126

J—05喷铝技术在真空冶金设备制造中的应用 张令山130

J—05喷铝技术在真空冶金设备制造中的应用 张令山130

J—06膜盒式真空继电器的研制 孙广生 姜增奎132

J—06膜盒式真空继电器的研制 孙广生 姜增奎132

J—07微型轴承真空热处理工艺的研究 刘植群135

J—07微型轴承真空热处理工艺的研究 刘植群135

J—09 RH工艺和设备的新进展（摘要） 王殿禄137

J—081J79合金在真空感应炉冶炼中气体变化规律的137

J—09 RH工艺和设备的新进展（摘要） 王殿禄137

研究（摘要） 严超雄 张秉有137

J—081J79合金在真空感应炉冶炼中气体变化规律的137

研究（摘要） 严超雄 张秉有137

J—10钛熔炼技术的进展（摘要） 江河138

J—12空心阴极的运行条件（摘要） 李连升138

J—11 引进真空冶金设备的运行情况（摘要） 陈玉文138

J—10钛熔炼技术的进展（摘要） 江河138

J—11 引进真空冶金设备的运行情况（摘要） 陈玉文138

J—12空心阴极的运行条件（摘要） 李连升138

J—14真空冶金非标准设备研究与实践（摘要） 唐秉生 张先声139

J—13蜂窝状阴极在冶金电子束炉上的进展（摘要） 冷志139

J—13蜂窝状阴极在冶金电子束炉上的进展（摘要） 冷志139

J—14真空冶金非标准设备研究与实践（摘要） 唐秉生 张先声139

J—15真空技术的某些进展（摘要） 马 元 王树理140

J—16φ300/L1000真空自耗电弧炉……吕玉静邬国亨 曹大明 钟挹秀140

冶金部钢铁研究总院140

J—16φ300/L1000真空自耗电弧炉……吕玉静邬国亨 曹大明 钟挹秀140

冶金部钢铁研究总院140

J—15真空技术的某些进展（摘要） 马 元 王树理140

J—17调整工艺参数对真空自耗重熔锭熔池深度影响的研究143

周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院143

周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院143

J—17调整工艺参数对真空自耗重熔锭熔池深度影响的研究143

周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院147

J—18真空自耗重熔工艺参数对熔池形状影响的数模研究147

周兴铮 祁国策 潘京一 钢铁研究总院147

J—18真空自耗重熔工艺参数对熔池形状影响的数模研究147

B—01氮氧化硅薄膜研究 俞诚151

B—01氮氧化硅薄膜研究 俞诚151

※ ※ ※151

※ ※ ※151

B—02磁泡坡莫合金薄膜元件的离子束刻蚀 刘殿臣忻国平153

B—02磁泡坡莫合金薄膜元件的离子束刻蚀 刘殿臣忻国平153

B—03射频溅射Ni—Fe合金薄膜磁阻特性的研究 杜荣浚黄青青156

B—03射频溅射Ni—Fe合金薄膜磁阻特性的研究 杜荣浚黄青青156

B—04铬薄膜干法刻蚀特性探讨 严金龙沈国雄158

B—04铬薄膜干法刻蚀特性探讨 严金龙沈国雄158

B—05光电导性不同的两类α—Si：H膜 海字涵 周忠毅160

B—05光电导性不同的两类α—Si：H膜 海字涵 周忠毅160

B—06分子束外延GaAs薄膜及其性能研究 孔梅影 孙殿照162

B—06分子束外延GaAs薄膜及其性能研究 孔梅影 孙殿照162

B—07分子束外延GaAs掺Se 孔梅影D.A.Andrews,G.J.Davies165

B—07分子束外延GaAs掺Se 孔梅影D.A.Andrews,G.J.Davies165

B—08真空制备聚对二甲苯薄膜 阎桂兰169

B—08真空制备聚对二甲苯薄膜 阎桂兰169

B—09微波功率晶体管多层金属化电极系统中的接触层 蔡克理172

B—09微波功率晶体管多层金属化电极系统中的接触层 蔡克理172

B—10非晶硅薄膜的性能及制备工艺 丹锋唐 梁174

B—10非晶硅薄膜的性能及制备工艺 丹锋唐 梁174

B—11用SIMS分析磷硅玻璃中磷的外迁移 王化文 杨存安176

B—11用SIMS分析磷硅玻璃中磷的外迁移 王化文 杨存安176

B—12薄膜制备过程中的残余气体的动态特性 庞叔鸣张秀贤179

B—12薄膜制备过程中的残余气体的动态特性 庞叔鸣张秀贤179

B—13多碱阴极的V—I特性 薛增泉刘惟敏182

B—13多碱阴极的V—I特性 薛增泉刘惟敏182

B—14α—SlxC1-x:H薄膜光电性能的研究 陈光华 张仿清186

B—14α—SlxC1-x:H薄膜光电性能的研究 陈光华 张仿清186

B—15氮分压对空心热阴极离子镀TiN涂层相结构及188

性能影响的研究 陈宝清 朱英臣188

性能影响的研究 陈宝清 朱英臣188

B—15氮分压对空心热阴极离子镀TiN涂层相结构及188

B—16通氧反应离子镀ITO透明导电薄膜 金昭廷谢淑云192

B—16通氧反应离子镀ITO透明导电薄膜 金昭廷谢淑云192

B—17氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德195

B—17氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德195

B—18银—氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德198

B—18银—氧化铯薄膜的光学性质 李建平 吴全德198

B—19离子镀铝膜组织形貌与相结构的研究 陈宝清 朱英臣200

B—19离子镀铝膜组织形貌与相结构的研究 陈宝清 朱英臣200

B—20蒸发薄膜的精细监测 薛大同 魏向荣203

B—20蒸发薄膜的精细监测 薛大同 魏向荣203

B—21真空镀铝 韩耀文李大明207

B—21真空镀铝 韩耀文李大明207

B—22一种控制MBE装置中分子束恒定的方法 姜祥祺209

B—22一种控制MBE装置中分子束恒定的方法 姜祥祺209

B—23钛粉涂层表面处理 邹常荣212

B—23钛粉涂层表面处理 邹常荣212

B—24离子束刻蚀机中有害污染物的控制 黄良甫 李守忠214

B—24离子束刻蚀机中有害污染物的控制 黄良甫 李守忠214

B—25用平面磁控溅射法制备Ti—Mo—Au膜的A uger分析 许汴生218

B—25用平面磁控溅射法制备Ti—Mo—Au膜的A uger分析 许汴生218

B—26用等离子体增强TiN的化学气相沉积 李世直222

B—26用等离子体增强TiN的化学气相沉积 李世直222

B—27微波等离子体对聚合物粘接的效应 李世直226

B—27微波等离子体对聚合物粘接的效应 李世直226

B—28 HCD法涂敷氮化钛设备 朴元柯229

B—28 HCD法涂敷氮化钛设备 朴元柯229

B—29沉积温度对ITO薄膜性质的影响 奚中和 杨大同233

B—29沉积温度对ITO薄膜性质的影响 奚中和 杨大同233

B—30空心阴极电子枪的设计 钱三德236

B—30空心阴极电子枪的设计 钱三德236

B—31离子镀膜应用实例（摘要） 张殿飞243

B—31离子镀膜应用实例（摘要） 张殿飞243

B—32真空连续蒸镀装置 张殿飞244

B—32真空连续蒸镀装置 张殿飞244

B—33在椭圆仪上应用双入射角法测定真空沉积膜的膜厚 严樟根246

B—33在椭圆仪上应用双入射角法测定真空沉积膜的膜厚 严樟根246

B—34磁控溅射硅整流器欧姆接触层研究 王丽红252

B—34磁控溅射硅整流器欧姆接触层研究 王丽红252

B—35薄膜技术发展的新动向 李仲君254

B—35薄膜技术发展的新动向 李仲君254

B—36石英晶体天平在研制中微子质量测量源中的应用（摘要） 杜鸿善257

B—36石英晶体天平在研制中微子质量测量源中的应用（摘要） 杜鸿善257

B—37真空镀膜技术的发展趋势（摘要） 张宗侠258

B—37真空镀膜技术的发展趋势（摘要） 张宗侠258

B—38钒膜的制备及其超导转变温度 郑家祺261

B—38钒膜的制备及其超导转变温度 郑家祺261

B—39磁控溅射技术在超硬膜方面的应用研究 王怡德264

B—39磁控溅射技术在超硬膜方面的应用研究 王怡德264

B—41 ITO薄膜制备气氛的研究 奚中和 杨大同270

B—41 ITO薄膜制备气氛的研究 奚中和 杨大同270

B—42氮化钛仿金装饰膜层分析 杨永康273

B—42氮化钛仿金装饰膜层分析 杨永康273

B—43 KD—500,KD—700高真空多层光学镀膜机 陈丽芳 林权昌279

B—43 KD—500,KD—700高真空多层光学镀膜机 陈丽芳 林权昌279

B—45用磁控反应溅射方法制备ITO薄膜（摘要） 李文天283

B—44仿金离子镀氮化钛装饰膜工艺及其膜层性能（摘要） 沈月英等283

B—45用磁控反应溅射方法制备ITO薄膜（摘要） 李文天283

B—44仿金离子镀氮化钛装饰膜工艺及其膜层性能（摘要） 沈月英等283

B—46超硬膜的应用与发展（摘要） 王怡德284

B—47超导交叉膜隧道结的电流—电压滞回（摘要） 张裕恒 陈莺飞284

B—47超导交叉膜隧道结的电流—电压滞回（摘要） 张裕恒 陈莺飞284

B—46超硬膜的应用与发展（摘要） 王怡德284

（I），双结SQUID（摘要） 张裕恒李玉芝285

B—49在—个磁通量子内dc JoSeph5on电流的阶梯效应285

B—48超导弱连接的电压磁场关系（I）,L=0的情况（摘要）285

张裕恒王军285

（I），双结SQUID（摘要） 张裕恒李玉芝285

B—49在—个磁通量子内dc JoSeph5on电流的阶梯效应285

张裕恒王军285

B—48超导弱连接的电压磁场关系（I）,L=0的情况（摘要）285

B—50低能离子束溅射形成的碳膜（摘要） 程世昌徐在贵286

B—50低能离子束溅射形成的碳膜（摘要） 程世昌徐在贵286

B—51低能离子束直接淀积形成透明碳膜（摘要） 徐在贵 彭友贵286

B—51低能离子束直接淀积形成透明碳膜（摘要） 徐在贵 彭友贵286

B—53真空蒸发薄膜的微结构及潮气吸附（摘要） 唐晋发 顾培夫287

B—53真空蒸发薄膜的微结构及潮气吸附（摘要） 唐晋发 顾培夫287

B—52 ZnO薄膜的磁控溅射生长与择优取向（摘要） 吕美安赵明洲287

B—52 ZnO薄膜的磁控溅射生长与择优取向（摘要） 吕美安赵明洲287

B—54低温溅射生长AIN薄膜的微观结构与宏观性质288

（摘要） 何华辉 龙兴武288

（摘要） 何华辉 龙兴武288

B—55 复合磁性—介质—磁性层状单晶薄膜的连续外延生长288

（摘要） 李兴教徐则川288

B—54低温溅射生长AIN薄膜的微观结构与宏观性质288

B—55 复合磁性—介质—磁性层状单晶薄膜的连续外延生长288

（摘要） 李兴教徐则川288

B—56非晶硅薄膜瞬态响应时间的光谱特性（摘要）289

海宇涵 周忠毅289

B—57二氧化钛光学薄膜理化特性研究（摘要） 赵书文王淑荣289

B—57二氧化钛光学薄膜理化特性研究（摘要） 赵书文王淑荣289

海宇涵 周忠毅289

B—56非晶硅薄膜瞬态响应时间的光谱特性（摘要）289

B—59膜厚测量仪的量程扩展（摘要） 李仲君290

B—58射频溅射介质薄膜性能与基片的关系（摘要） 白淑华邱荣方290

B—58射频溅射介质薄膜性能与基片的关系（摘要） 白淑华邱荣方290

B—59膜厚测量仪的量程扩展（摘要） 李仲君290

B—60真空镀膜设备的现状和发展趋势（摘要） 孙天半291

B—61 非均匀磁场E型电子枪光学镀膜机（摘要） 付绍英廖燕南291

B—62低能大面积离子束技术的发展和应用（摘要） 黄良甫291

B—62低能大面积离子束技术的发展和应用（摘要） 黄良甫291

B—61 非均匀磁场E型电子枪光学镀膜机（摘要） 付绍英廖燕南291

B—60真空镀膜设备的现状和发展趋势（摘要） 孙天半291

B—63 PMS—380平面磁控管溅射的试验研究（摘要）292

宦鸿信 王龙超 沈元君孙又君292

B—64离子镀膜综述（摘要） 张殿飞292

宦鸿信 王龙超 沈元君孙又君292

B—63 PMS—380平面磁控管溅射的试验研究（摘要）292

B—64离子镀膜综述（摘要） 张殿飞292

B—65收口式空心阴极的试验研究（摘要） 高汉三等293

Z—23 几种超高真空泵残余气体成份探讨 胡昌官293

补 遗293

Z—23 几种超高真空泵残余气体成份探讨 胡昌官293

补 遗293

B—65收口式空心阴极的试验研究（摘要） 高汉三等293

Z—24 微量检漏技术在电子管生产中的应用 邵力为 刘南昌 赵晓东294

Z—25 功率行波管内残余气体分析 邵力为 万宝騑 吴诚安294

Z—25 功率行波管内残余气体分析 邵力为 万宝騑 吴诚安294

Z—24 微量检漏技术在电子管生产中的应用 邵力为 刘南昌 赵晓东294

W—30用场发射显微镜对钨的单个晶面吸附现象的研究……………巩运明 项柏松张洪滨等6人295

W—30用场发射显微镜对钨的单个晶面吸附现象的研究……………巩运明 项柏松张洪滨等6人295