作者:(美)坤杜著 出版:北京:科学出版社 页数:261    ✅ 真实服务 非骗流量  ❤️ 出版时间:2014.05 (求助前请核对清楚) 求助编号:9135157390 (学习资料 勿作它用) 求助格式:PDF(无水印/扫描版)我要投诉 重要说明:求助即说明同意《文件求助条款》   Word/doc、ePubb、mobi、PPT、TXT
  • 本书的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势,半导体制造技术,光刻技术,工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模,面向可制造性的物理设计技术,测量、制造缺陷和缺陷提取,缺陷影响的建模和合格率提高技术,物理设计和可靠性,DFM工具和DFM方法。

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