《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》高清PDF
作者:(美)坤杜著
出版:北京:科学出版社
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出版时间:2014.05 (求助前请核对清楚)
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本书的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势,半导体制造技术,光刻技术,工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模,面向可制造性的物理设计技术,测量、制造缺陷和缺陷提取,缺陷影响的建模和合格率提高技术,物理设计和可靠性,DFM工具和DFM方法。
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