本书是一本国际上关于脉冲激光沉积动力学原理的专著,全面系统地总结了作者多年研究成果,详尽介绍了自主创新从整体上构建的包括PLD各工艺阶段的自洽动力学理论框架,并阐明各工艺阶段的物理机制。在烧蚀阶段全面考虑韧致辐射和光致电离效应,建立含蒸发、热源和动态靶材吸收率综合烧蚀模型,还全面描写从纳秒到飞秒脉冲激光的综合非傅立叶热传导新模型。在等离子体膨胀阶段,介绍作者构建等离子体演化的,有限爆炸冲击波模型;发展了准分子动力学的模拟方法,可以准确地描述了等离子体羽辉演化过程。基于局域能量动量守恒定律,提出了更为符合实际的新的等离子体演化方程。薄膜沉积生长阶段首次建立了PLD薄膜生长的蒙特卡罗的物理模型;发现在薄膜生长的早期阶段,生长密度函数与激光强度和覆盖角依赖关系遵从广义标度规律,并确定标度指数的数值;发现生长岛密度相对于脉冲激光数具有新的标度率。尤其值得指出的是,

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