《硅技术的发展和未来》高清PDF
作者:P.Siffert;E.Krimmel
出版:北京:冶金工业出版社
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出版时间:2009.02 (求助前请核对清楚)
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本书主要内容包括硅的基本物理性质、半导体晶体硅材料及工业用硅的研发历史、用于电子器件和光伏发电的多晶硅技术、硅外延、薄膜、多孔层和非晶硅技术的发展、硅在研究材料缺陷研究中的作用、硅掺杂特性、硅材料中杂质特性研究、半导体功率器件、硅补偿器件、集成电路、纳电……
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