《表3 2008—2010年不同茬口黄瓜生长期内每增加一叶所需有效积温模型》

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《日光温室黄瓜生长积温研究》

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进一步对上述两个茬口黄瓜每增加一叶所需有效积温进行回归分析，得出不同茬口黄瓜叶片生长与有效积温的模拟模型（表3），并对两个模型的拟合度进行了显著性检验，且均通过0.01水平的显著性检验。进而利用2008年10月6日至2009年1月19日（秋冬茬26个样本）和2010年3月8日至6月1日（冬春茬34个样本）数据对表3两个模型分别进行拟合检验，得到平均绝对误差分别为4.3℃、3.9℃，平均相对误差分别为11.6%、11.8%。利用2009年9月21日至2010年1月15日（秋冬茬27个样本）和2009年2月4日至6月2日（冬春茬36个样本）数据对表3两个模型分别进行了独立样本应用检验，得到平均绝对误差分别为3.2℃、4.8℃，平均相对误差分别为8.8%、12.9%。拟合检验和应用检验的平均相对误差均在10%左右，表明所建模型具有一定适用性，可根据叶片数来估算叶片生长所需积温，进而科学调控温室温度。