《表1 仿真计算用材料物性参数（T=1 700 K)》

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《稳态磁场对激光熔注球形WC颗粒分布的影响机理研究》

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为排除强磁场对熔注过程的干扰，试验基材与熔注粉末均为非铁磁性材料。基材选用316L奥氏体不锈钢，其热物理属性如表1及图3所示[14-15，17]，基体尺寸为200 mm×20 mm×10 mm，试验前经砂纸打磨，丙酮清除油污。注入粉末为球形铸造WC陶瓷颗粒，粒径为60～100μm，平均尺寸为80μm，如图1所示。并将粉末放在120℃的保温箱干燥2小时后使用。采用最大场强为2 T的电磁铁为熔池区域提供稳态磁场（如图2所示)。激光熔注工艺参数：激光功率密度1.35×108 W/m2，扫描速度4.25mm/s，送粉率10 g/min，颗粒注入熔池速度约为0.4m/s，保护气为氩气。将经过熔注后的试样沿扫描方向切开，经打磨抛光后，利用扫描电镜的背散射模式观察熔注层纵截面中的颗粒分布。