《表1 工艺参数：可见光波段Si_xN_y/SiO_2硬质增透膜的研制》

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《可见光波段Si_xN_y/SiO_2硬质增透膜的研制》

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基板进入真空室之前，先用酒精进行超声波清洗，然后将基板用高温胶带贴在护板上，再进入真空室中抽真空。当真空室内的真空度达到8.0×10-4 Pa时，工件盘的转速为80r/min，此时根据设置好的程序，系统会自动打开ICP轰击基板表面，达到清洁和活化基板表面的效果，清洗过程持续1min。清洗完成后系统开始自动成膜，整个沉积过程中ICP持续处于开启状态进行辅助沉积。实验使用的具体工艺参数如表1所示。其中，TG1/2-Si表示实验使用的两对靶材都为Si靶，ICP*2表示使用两个ICP同时进行辅助沉积。