《表3 涂层的EIS拟合参数》

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《Mo含量对CoCrFeNiMo高熵合金组织及耐蚀性能的影响》

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对涂层阻抗谱进行电路拟合，拟合图像验证了涂层具备单一容抗弧且具有单一时间常数的特征，对应的是以单一活化控制为主的拟合电路，等效电路图如图5所示。其中，Rs表示溶液电阻，Q代表表面影响的界面电容，Rct表示电荷转移电阻。运用Zview进行拟合，拟合参数见表3。看出，Mo3组涂层具有最大的n和Rct值，前者表明涂层表面光滑腐蚀产物少，后者与耐蚀性能呈正相关，能够说明Mo3组的耐蚀性优于Mo1组的，这与极化试验中Mo3组腐蚀电流密度比Mo1组低的结果相吻合。