《表1 硅元素对NIST 951a中11B/10B测量结果的影响》

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《直接熔融热电离质谱法测定硼硅玻璃中硼同位素比值》

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平均离子流强度反应的是整个测量过程中的蒸发电离情况，当初始离子流强度设定为2 V时，测量过程中离子流平稳增长或者衰减，没有明显的波动，且平均离子流强度维持初始离子流强度不发生明显衰减（<1 V）或者高于初设强度，可认为样品能维持稳定的蒸发和电离，这是热电离质谱测定获得高精度数据的保证[13]。按1.3.1制备的含硅硼酸样品，点样时控制不同样品硼含量均为1μg，测量结果如表1所示。可以看到，初设离子流强度为2 V，随着硅含量的增加，平均离子流强度从3.13 V缓慢降低至1.90 V，说明硅会对硼的蒸发电离起到一定的抑制作用。图1是不同比例硅NIST 951a中11B/10B的测量结果与参考值的对比，不同样品结果均在标准参考值偏差范围内。