《表1 阳极覆膜和电解抛光参数》

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将试样镶嵌、打磨和抛光后在配备能谱的Zeiss EVO MA10扫描电子显微镜下检测第二相,并使用Image J软件统计第二相的尺寸和分布。对抛光后的试样进行阳极覆膜处理,在OLYMPUS BX51M显微镜下进行微观组织观测并测量和统计粗晶层深度。对抛光后的试样进行电解抛光处理,在Zeiss EVO MA10扫描电子显微镜进行电子背散射衍射(EBSD)检测,使用Aztec Nordlys Nano系统采集数据,并由CHANNEL 5软件系统处理。在直流电源上进行阳极覆膜和电解抛光,相关参数列于表1。