《表2 起垄内嵌式基质栽培垄规格对甜椒生长和产量的影响》

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《起垄内嵌式基质栽培垄规格对根区温度和甜椒生长的影响》

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注:同列数据上不同小写字母表示不同处理间差异显著（P<0.05）。

表2反应了不同垄规格对甜椒的株高、茎粗、SPAD和产量的影响。从中可以看出，在株高方面以T0土壤处理最高为68.52cm，以T1窄垄处理最低为55.10cm，两者之间差异显著，但不同垄规格和覆膜类型对甜椒株高没有显著性差异；甜椒茎粗以T0土壤处理最高为16.19mm，以T1最低为13.18mm，两者之间差异显著，但覆膜类型和垄规格对甜椒茎粗没有显著的影响；在SPAD方面，同样以T0处理最高为71.92，以T3处理最低为66.64，彼此之间差异显著，而从表中数据可以看出，栽培垄的高度、宽度和覆膜类型对甜椒SPAD没有显著影响；由上表可知，不同处理产量之间存在较大的差异，各处理产量由高到低依次为:T3>T5>T4=T1>T2>T0，与对照相比产量分别提高了90.6%、50.0%、43.7%、43.7%和31.2%，并且T3和T5处理的产量要显著高于对照。