《表1 6种不同深宽比的PMMA微通道样品》

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《移动X射线光刻制备等腰三角形结构的PMMA微通道》

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PMMA微通道是利用LIGA工艺制备的[16]，该通道横截面宽度约10μm，凹槽长度L为6.7～39.4μm，其中单个掩膜版图案底边长为100μm，32个图案以300μm的间距排成一行，图1表示了相邻两个X射线掩膜图案的尺寸以及连续32个X射线吸收体图形组成的掩膜版。本实验共制备6种不同深宽比的微通道，如表1所示。