《表1 PS-PVD喷涂7YSZ陶瓷层参数》

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《等离子喷涂-物理气相沉积7YSZ热障涂层形成机制》

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采用PS-PVD（Oerlikon-Metco）在K452g高温合金基体表面制备了CoCrAlSiY黏结层，抛光（降低粗糙度且去除黏结层表面的未有效沉积颗粒）并喷砂（为提高结合强度，粗糙度控制在～2μm），再采用PS-PVD以纳米团聚的7YSZ粉末为原料（牌号:M6700，OerlikonMetco）在黏结层表面制备陶瓷涂层，其中团聚喷涂粉末粒径为5～22μm，该粉末的透射电子显微镜（transmission electron microscope，TEM）照片如图1所示，经统计团聚粉末的原始粒径为50～120 nm.喷涂7YSZ陶瓷涂层过程如下:首先通过真空泵把喷涂真空舱抽至～150 Pa，然后回填氩气至4000 Pa时进行喷枪点火，再抽真空至150 Pa进行喷涂，喷涂过程中动态压力保持在150 Pa.点火后往真空罐中通入氧气，采用PS-PVD焰流高温吹扫黏结层进行预氧化，人为预制热生长氧化物（thermally grown oxide，TGO）层，预氧化后再保证一定预热温度下进行陶瓷涂层喷涂.经前期工艺优化后，7YSZ涂层喷涂工艺如表1所示.采用透射电子显微镜（Titan Themis 200，FEI）对制备的涂层进行微观结构分析，其中使用聚焦离子束（focused ion beam，FIB，450S，FEI）原位切割制样.