《表2 钛表面不同成分的微弧氧化层的粗糙度及接触角》
纯钛在较低电压下进行微弧氧化处理时,放电通道内生成的熔融物较少,且表面的高温、高压提供的能量不足以使HA结晶形核以及生长,因此涂层表面形貌呈多孔状,如图6b所示。通过提高微弧氧化电压至360 V,可得到布满花瓣状HA的表面(图1b),对样品表面的花瓣状HA进行高频超声清洗,去掉突出的花瓣后,所得表面形貌与图6b的多孔形貌相似,如图6a所示。由图7的XRD谱可知,超声清洗后得到的如图6a所示的多孔表面主要组成仍旧为HA,而图6b的多孔表面主要成分为Ti O2。且通过图像软件分析发现,这两种试样表面虽然成分不同,但孔洞尺寸分布及孔隙率均较接近,且粗糙度数值没有明显差异(表2),可认为两种试样的结构基本相同。由此可知,笔者成功制得表面结构相同、成分分别为Ti O2和HA的微弧氧化层。
图表编号 | XD00100279300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.25 |
作者 | 张贤琳、王晓琳、马建威、李宝娥、李海鹏、刘世敏、梁春永、王洪水 |
绘制单位 | 河北工业大学材料科学与工程学院、河北工业大学材料科学与工程学院、河北工业大学材料科学与工程学院、河北工业大学材料科学与工程学院、河北工业大学材料科学与工程学院、天津商业大学宝石及材料工艺学系、河北工业大学材料科学与工程学院、河北工业大学材料科学与工程学院 |
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