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目录1

第一章 磁泡基础1

1.1什么叫磁泡1

1.2磁各向异性3

1.3亚铁磁性与补偿温度4

1.4稀土类铁石榴石的特征及磁性8

1.5磁泡材料的霍尔效应和光克尔效应12

1.5.1反常霍尔效应12

1.5.2光克尔效应14

1.5.3实验结果15

1.5.4考察18

1.5.5小结19

1.6.1引言20

1.6磁泡材料的磁光性质20

1.6.2采用磁光手段对磁泡元件材料特性的评价法21

1.6.3磁泡材料的吸收光谱22

1.6.4磁泡材料的磁光旋转谱24

1.6.5小结28

参考文献29

第二章 磁泡畴的物性30

2.1磁泡畴静力学30

2.1.1静力学概论30

2.1.2垂直磁化膜和磁泡畴31

2.1.3磁泡畴的数学表示33

2.1.4磁泡的磁能及其变化34

2.1.5磁泡稳定条件38

2.1.6磁泡的驱动力43

2.1.7硬泡45

2.1.8半泡和它的稳定性50

2.2.1畴壁平面的移动速度52

2.2磁泡畴动力学52

2.2.2磁泡畴动力学67

参考文献80

第三章 磁泡材料的特性81

3.1磁泡材料的发展史81

3.2材料特性要求83

3.2.1必要条件83

3.2.2希望条件87

3.2.3各条件的要点89

3.3正铁氧体及磁铅石90

3.3.1物性简述90

3.3.2磁泡92

3.3.3特征96

3.4.1物性简述98

3.4石榴石98

3.4.2块状单晶100

3.4.3外延膜108

3.4.4硬泡的抑制123

3.5非晶材料124

3.5.1物性简述124

3.5.2特性126

参考文献128

第四章 磁泡材料的制法132

4.1正铁氧体单晶的制法132

4.1.1助熔剂法132

4.1.2浮区熔法135

4.1.3其它的制法136

4.2.1助熔剂法138

4.2石榴石单晶的制法138

4.2.2液相外延生长法（LPE法）139

4.2.3气相外延生长法（CVD法）155

4.3特性的控制162

4.3.1硬泡抑制法162

4.3.2磁泡特性的精密控制167

4.4基片单晶的制法169

4.4.1基片的必要条件169

4.4.2基片单晶的生长法170

4.4.3基片单晶的质量172

4.5单晶的加工技术175

4.6非晶磁泡材料的制造方法177

参考文献180

第五章 材料特性的测定法183

5.1晶格常数的测定法184

5.2膜厚的测定法185

5.3磁化强度和特征长度的测定法186

5.4单轴各向异性常数Ku的测定法188

5.5畴壁矫顽力Hc的测定法190

5.6畴壁迁移率的测定法192

5.7磁泡材料缺陷分布的测量198

5.7.1对缺陷的规格要求198

5.7.2缺陷分布图的测定法198

5.8结晶特性的测定208

参考文献210

第六章 磁泡回路的制造技术211

6.1引言211

6.2磁泡器件的制造工艺211

6.3.1光致抗蚀剂与光刻工艺215

6.3各工序的说明215

6.3.2电子束曝光223

6.4磁泡制造中所用的其它曝光技术224

6.4.1X射线蚀刻225

6.4.2电子投影装置（ELIPS）227

6.5小结229

参考文献229

第七章 磁泡的应用230

7.1磁泡回路230

7.1.1磁泡的传输230

7.1.2磁泡的发生和消灭240

7.1.3开关回路和门回路243

7.1.4逻辑回路245

7.1.5磁泡检测回路250

7.1.6其它回路254

7.2磁泡的应用255

7.2.1磁泡应用回路的基础255

7.2.2大容量存贮器255

7.2.3单触拨号盘存贮器的应用259

7.2.4泡点阵外存贮器262

7.2.5由磁泡构成的全磁计算机263

7.2.6显示器265

7.2.7在信息处理方面的应用266

7.2.8其它方面的应用269

参考文献271

第八章 与磁泡有关的专利资料273

附录341

附录一 磁泡技术词汇341

附录二 人名英汉对照349