《云南电子技术》
| 作者 | 《云南电子技术》编辑组编 编者 |
|---|---|
| 出版 | 云南省电子工业研究所 |
| 参考页数 | 65 |
| 出版时间 | 1978（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 无 — 求助条款 |
| PDF编号 | 8577758（仅供预览，未存储实际文件） |
| 求助格式 | 扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册） |
一、氧化铁膜生长规律及其物化特性五机部二一一研究所1
二、用聚乙烯二茂铁制备半透明掩模一四四四所制版组16
三、CVD氧化铁彩色掩模的制作八七三厂十四车间21
四、超微粒干版制备的一些改进八七三厂十四车间24
五、超微粒干版制作小结国营四三二六厂六车间制版组25
六、聚乙烯二茂铁的制备重庆东方红试剂厂净化车间茂铁小组27
七、明胶简介重庆皮胶厂29
八、氧化铁版自动控制装置国营八七九厂30
九、超微粒聚乙烯醇干版研制初步（摘录）四川大学半导体专业35
十、PD光掩模的研制和应用四川大学半导体专业 亚光电工厂五车间37
十一、减小溴化银颗粒度分散性的一个措施重庆大学45
十二、国外电子束制版情况简介中国科技情报研究所重庆分所46
1978《云南电子技术》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由《云南电子技术》编辑组编 1978 云南省电子工业研究所 出版的版本） 。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。
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