《表4 复合膜层与基体结合力的正交分析Tab.4 Orthogonal analysis of bonding force between composite film and substrate》下

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《铝表面微弧氧化制备含ZrO_2复合陶瓷膜层的组织与性能》

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正交试验条件下复合膜层与基体（膜基）结合力如图5所示，各因素水平下膜基结合力的平均值及极差见表4。试验结果表明:8号试样的膜基结合力最大，可达到98.67N，膜层与基体结合状况较好。由表4可知:各因素对于膜基结合力影响从高到低的顺序依次为Na2SiO3含量、NaOH含量、ZrO2含量、正向电压；同一水平下膜基结合力的平均值越大，则该水平下膜基结合性能越好。适量的Na2SiO3可以使微弧氧化制备的膜层表面阻挡层厚度和致密度相对较大，有助于提高膜层与铝基体的结合状况。适量的ZrO2粉能够提高膜基结合力，改善复合膜层的表面质量[11]。由表4可知，当正向电压为475V、Na2SiO3质量浓度为8g/L、NaOH质量浓度为1.5g/L、ZrO2质量浓度为1.5g/L时，制备的复合膜层与基体的结合性能最好。