《表2 膜表面的化学组成：辣素衍生物改性PVDF膜的制备及其抗菌性能》

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《辣素衍生物改性PVDF膜的制备及其抗菌性能》

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将所合成的PMMA-Capsa与PVDF共混，通过非溶剂诱导相转化法制备PVDF/PMMA-Capsa共混膜。如图2为所制备的纯PVDF膜（M0）和PVDF/PMMA-Capsa(M3）的XPS全谱图和C1s谱图。可以发现在M0膜表面全谱图中，在688.0eV和291.0eV分别出现F1s和C1s的特征信号。和M0膜相比，M3膜表面在532.9eV和400.2eV分别出现O1s和N1s的特征信号，这主要来自于PMMA-Capsa结构中。此外，在M0膜的C1s谱中，结合能290.6eV和286.3eV分别为PVDF结构中CF2和CH2。在284.7eV处出现的小峰为C H的信号，这可能来自于PVDF中的支链和末端基团[16]。对于PVDF/PMMA-Capsa膜而言，C1s谱图则可分为4个部分，除了与PVDF膜相同的特征峰外，在288.3eV处的特征峰对应PMMA-Capsa中的C O基团[17]。表2分别给出了相应特征元素和特征峰的摩尔分数，随着铸膜液中PMMA-Capsa浓度的增加，F1s的含量逐渐降低，而O1s和N1s的含量逐渐增加。这些结果表明PMMA-Capsa已成功引入到分离膜结构当中。基于膜表面的基团摩尔含量，可计算C O/CF2比值。如表2所示，C O/CF2的实验值（下角标e）远高于理论值（下角标t），这说明PMMA-Capsa在成膜过程中倾向于分布在膜表面及膜孔道表面。