《表2 离子源工艺参数:深紫外全介质反射式滤光膜的研究》
离子辅助沉积技术具有提高薄膜的致密性,减少金属氧化物薄膜吸收,防止膜层脱落等优点,因此被广泛应用于薄膜制备中[12].但由于深紫外波段容易产生较大的吸收,因此需要判断离子辅助沉积技术对该波段吸收的影响,在JGS1基底上分别加离子源和不加离子源镀制300nm Al2O3和AlF3,离子源工艺参数如表2,镀制完成后测得其透过率曲线如图4所示.
图表编号 | XD0023386500 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2018.10.01 |
作者 | 刘冬梅、黄宏、付秀华、张静、张功 |
绘制单位 | 长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院、长春理工大学光电工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |