《表1 空白铜和吸附了不同浓度的稳定的BDBD自组装体的铜在3.5%Na Cl溶液中的极化曲线参数》

《表1 空白铜和吸附了不同浓度的稳定的BDBD自组装体的铜在3.5%Na Cl溶液中的极化曲线参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《规整有机分子自聚集体对铜的高效缓蚀的研究》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

铜电极在3.5%Na Cl溶液中的相应电化学参数腐蚀电位(Ecorr)、腐蚀电流密度(jcorr)、阳极(β?a)和阴极(β?c)Tafel斜率以及缓蚀效率(ηj),如表1所示。由所给出的数据可知,β?a和β?c值随稳定的BDBD自聚集体浓度的变化而变化(例如,β?a:空白为0.04305 V/dec;稳定的BDBD自聚集体浓度为3.0×10-4mol/L时为0.1192 V/dec;浓度为5.0×10-4mol/L时为0.2025V/dec)。因此,可以认为铜表面吸附了稳定的缓蚀剂自聚集体,使得阴极和阳极反应都受到了抑制[7,23]。此外,稳定的BDBD自聚集体的吸附抑制了阳极和阴极反应从而降低了金属铜的腐蚀速率。所以在金属电极表面形成的坚固的BDBD自组装膜可以减缓氯离子对铜表面的侵蚀。当稳定的BDBD自聚集体的浓度为5.0×10-4mol/L时形成了最为坚固的自组装保护膜,缓蚀效率达到最大值。