《表3 薄膜经过氧化、退火之后氧含量的变化Tab.3 The oxygen content of the film after anodic oxidation and thermal anneali
双源电子束蒸发蒸镀的合金薄膜的EDS如图3所示,Mg、Al原子比比值为0.39。之后通过改变恒流恒压的条件对合金薄膜进行阳极氧化,为了探究薄膜的绝缘性能,将氧化薄膜退火,作为对比。薄膜经氧化、退火后的元素比例如表2、表3所示,从表2可知,氧化之后薄膜Mg、Al比例均比合金薄膜的比例(0.39)小,比值稍有下降,与文献[5~7]描述的现象相同。其原因之一是Mg2+迁移速度比Al 3+要快[5],导致阳极氧化过程中Mg更多的流失到电解液中,原因之二是由于薄膜上Mg原子的附着力小,在电流焦耳热以及弱碱性溶液的作用下比Al更容易溶解。氧化膜原子比Mg和Al的比值经过退火下降,同样可用Mg的附着力差来解释,小的附着力使得Mg比Al更容易在高温的环境中挥发出来。表3给出了氧化、退火之后氧化膜氧含量的变化,薄膜在阳极氧化之前,在空气中会被轻微氧化,氧含量一般在10%以下,氧化之后氧含量提升到百分之四十几,并且退火后氧含量无明显提升,说明薄膜在阳极氧化阶段已被充分的氧化,氧空位缺陷相对较少。
图表编号 | XD0019704400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.03.30 |
作者 | 杨耀杰、杨俊华、谭晓婉、李俊峰、李庆青、偰正才 |
绘制单位 | 深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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