《表1 不同退火温度下薄膜的均方根粗糙度值Tab.1 The root-mean-square roughness of the films at different annealing temper
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《退火温度对电子束沉积Ag/TiO_2薄膜光学性质和光催化性能的影响》
由表1和图6可以看出:随着退火温度的升高,小晶粒逐步聚集成大晶粒,薄膜呈岛状,导致Ag/TiO2薄膜的表面粗糙度增大[7,15,21~25]。
图表编号 | XD0020027600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.09.15 |
作者 | 郝殿中、张霞、韩培高、牛明生 |
绘制单位 | 曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室 |
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