《表1 不同成分的硅溶胶抛光液Tab.1 Col oidal silica polishing solutions with different components》

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《硅溶胶抛光液稳定性及对SiC化学机械抛光的影响》

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在芬顿反应中H2O2，Fe2+和p H值是构成芬顿反应试剂及环境的重要因素，直接影响了芬顿反应效果。为研究芬顿反应环境对碱性硅溶胶稳定性以及其对Si C抛光效果的影响，制备了不同芬顿试剂的硅溶胶抛光液（其成分如表1所示）进行抛光实验，φCS为硅溶胶质量分数。为检测抛光液稳定性，利用纳米粒度及Zeta电位分析仪对以上抛光液进行Zeta电位检测，因为检测时对样品的透光度要求较高，因此取样时取各个抛光液的上层澄清溶液。