《表3 B组与坩埚埚盖接触表面沉积物主要谱峰相对强度》

《表3 B组与坩埚埚盖接触表面沉积物主要谱峰相对强度》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《PVT方法下AlN烧结工艺坩埚盖处氧杂质沉积行为研究》


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图5(c)为B组烧结实验后对黄褐色层表面中心取样的XRD分析图,发现图谱也与标准纤锌矿结构的AlN卡片基本吻合,但代表含氧物相的谱峰已经消失,说明该区域氧杂质含量降低。在2θ为38.530°(被相近位置的六方纤锌矿AlN相谱峰覆盖)、44.771°及65.185°等三处出现了新差异谱峰。经过单峰搜寻和标准卡片比对,发现差异谱峰对应的物相为面心立方结构的AlN(PDF.#46-1200,空间点群为Fm-3m),这也与文献[8]的研究结果相吻合,即面心立方AlN是常温下的亚稳定相,却常见于高温退火/烧结工艺后的纤锌矿结构AlN材料中。