《表2 密封性能试验结果》
密封性能试验现场如图8所示,密封性能试验结果见表2,可见3套密封结构在常温和20 K深低温3 MPa密封压力下漏率均优于1×10-8Pa·m3/s,密封性能良好,完全满足使用需求。经历2次温度循环后,结构密封性能未发生变化。
图表编号 | XD0016220200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.12.01 |
作者 | 许光、满满、廖传军、周浩洋 |
绘制单位 | 深低温技术研究北京市重点实验室、北京宇航系统工程研究所、深低温技术研究北京市重点实验室、北京宇航系统工程研究所、深低温技术研究北京市重点实验室、北京宇航系统工程研究所、深低温技术研究北京市重点实验室、北京宇航系统工程研究所 |
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